俄罗斯自研350纳米光刻机成功，微电子产业自主化迈大步！

莫斯科市长谢尔盖·索比亚宁近日宣布了一项重大科技突破：位于该市的泽列诺格勒纳米技术中心已经成功研制出俄罗斯首台350纳米光刻机，并即将进入批量生产的崭新阶段。

回顾过去，早在2023年，俄罗斯便雄心勃勃地提出了光刻机自主研发计划，目标是在2024年实现350纳米光刻机的国产化，并预计在2026年更进一步，完成130纳米光刻机的研发工作。这一宏伟蓝图涉及莫斯科、泽列诺格勒、圣彼得堡及新西伯利亚等多个地区的技术协同与工厂合作。

2024年5月，俄罗斯再次传来好消息，宣布首台国产光刻机已经组装完成并进入测试阶段。而此次，谢尔盖·索比亚宁不仅证实了这一消息，还首次向公众展示了这台具有里程碑意义的350纳米光刻机的实物照片。

索比亚宁市长自豪地指出，全球范围内能够制造此类半导体关键设备的国家屈指可数，而俄罗斯已经成功跻身其中。这一成就不仅标志着俄罗斯微电子产业本土化进程的重大推进，也彰显了该国在科技自主道路上迈出的坚实步伐。

据了解，俄罗斯这款光刻机在技术上具有显著的创新性。它摒弃了传统的汞灯光源，转而采用固态激光器，这一设计不仅提高了功率和效能，还大大延长了使用寿命，并实现了光谱的集中优化。该光刻机的工作区域广阔，达到了22×22毫米，能够支持最大直径为200毫米的晶圆制造。

值得注意的是，我国在光刻机技术领域同样取得了不俗的进展。中科院研发的深紫外（DUV）激光光源技术同样基于固态设计，并有望在未来推进至更先进的3纳米节点。然而，目前该技术仍面临功率和频率方面的挑战。

尽管350纳米工艺在当前全球科技水平中显得相对落后，但它仍然能够满足汽车、能源、通信等多个领域的基础需求。俄罗斯在光刻机技术上的不断突破，不仅为这些领域提供了有力的支持，也为该国持续推进更先进工艺的研发奠定了坚实的基础。

除了350纳米光刻机的成功研制外，俄罗斯还在积极推进130纳米光刻机的研发工作，并有望在明年完成。俄罗斯已经掌握了65纳米工艺制造技术，但目前仍依赖进口设备。为了全面实现技术的国产化，俄罗斯正在积极筹备，努力在微电子产业领域实现更大的突破。